Match! - 粉末衍射相位分析软件

Match!是一款易于使用的软件，用于使用粉末进行相分析衍射数据。它将样品的衍射图案与包含参考图案的数据库进行比较，以确定存在的相位。可以很容易地应用有关样品的其他知识，如已知的相位，元素或密度。

除了这种定性分析之外，还可以进行定量分析（使用Rietveld细化）。您可以在Match!中轻松设置和运行Rietveld细化，实际计算为在后台使用程序FullProf（由J. Rodriguez-Carvajal设计）自动执行。 Match!从全自动到“专家”模式，温和地介绍了Rietveld的改进。该软件可在Windows、macOS和Linux上原生运行。

Match!新版本4刚刚推出，提供配置文件拟合搜索匹配（PFSM），作为经过验证的基于峰值的搜索匹配的强大替代方案，用于定性分析。

（新的配置文件拟合搜索匹配功能的实际应用：在水泥样品上运行的新型材拟合搜索匹配功能）

像早期版本的Match!一样，可以应用随附的免费COD数据库，使用任一ICDD PDF产品作为参考数据库，或根据您自己的衍射图创建用户数据库。用户数据库模式可以手动编辑，从峰值文件导入，计算从晶体结构数据（例如CIF文件）中导入，或从同事的用户数据库。

以下是版本4中的新增功能：

轮廓拟合搜索匹配

主要改进是所谓的“配置文件拟合搜索匹配”（PFSM），这是一种强大的创新 用于定性物相分析的成熟基于峰的搜索匹配功能的替代方案。新函数将从当前参考数据库（或答案集）的每个候选条目计算的配置文件动态拟合到实验配置文件中， 因此，定性相分析不再需要有时模棱两可的峰搜索。

新功能无需其他软件即可使用，即不需要Rietveld软件（如FullProf）！事实上，实际上没有执行Rietveld细化，因为没有细化结构参数。

其工作原理如下：在个人资料拟合搜索匹配期间，Match!计算参考数据库（或答案集）的每个条目的配置文件模式，并且同时拟合强度比例因子和2theta位移，以便与实验剖面衍射图获得一致性。候选条目根据各个拟合计算得出的Rwp值进行排名，或者准确地说， 减少从相应的新候选条目将实现的选定阶段计算的Rwp值D（Rwp）。

剖面拟合搜索匹配（PFSM）的主要优点是不需要峰值搜索，从而避免了由此可能产生的歧义。

另一个重要的优势（与下面引用的Rietveld细化搜索匹配方法相比）是Match!可以使用任一常规的峰值数据参考数据库，如COD、ICDD PDF-2、PDF-4、自己的衍射图等。不需要了解候选相的原子参数！

虽然这种新方法的成功率肯定高于“经典”（基于峰）方法（尤其是次要或跟踪阶段）， 当然有一个主要缺点：计算时间更长。为了弥补这一点 在某种程度上，配置文件拟合 search-match默认在CPU的所有可用内核上并行运行。 也可以将计算限制在较少数量的CPU内核（或单个内核），以使您的计算机对其他任务更具“响应性”。

除了个人资料拟合搜索匹配外，Match!版本4提供了许多其他重要改进：

• 改进了定量RIR分析中对没有I/Ic值的条目的处理，例如在使用ICDD PDF-2数据库时：匹配列表中缺少的I/Ic值现在可以从导入的晶体结构数据（CIF）中计算或手动输入。
• 新菜单指令“Quantify / Rietveld refinement（FullProf）”使用当前选定的时间表（-> Rietveld 选项）执行自动Rietveld细化计算以进行定量分析。
• 新的“定量分析”选项“在饼图图形标题中显示定量分析方法”和“执行定量分析后自动切换到饼图图形”
• 新菜单指令“条目/自动条目选择”自动选择匹配的阶段。可以在“选项”窗口的“搜索匹配”选项卡上的“PF 搜索匹配”部分调整所需的蕞小Rwp减少（也用于自动选择条目）。
• 新的菜单指令“编辑/复制候选列表”将左下角候选列表的当前内容复制到剪贴板中，以便将其插入到其他程序（例如Microsoft Excel）中。
• 新的菜单指令“编辑/复制匹配列表”将匹配列表的当前内容（选择为“匹配”的阶段）复制到剪贴板中，以便将其插入到其他程序（例如Microsoft Excel）中。
• 在正常（基于峰值的）搜索匹配期间连续显示已找到的结果
• 对于macOS，现在有单独的ARM（Apple Silicon）和Intel处理器版本。这显著提高了 Apple Silicon的计算速度，同时减小了内存开销。
• 演示版有新的签名，让Match!4演示版可以运行60天，即使Match!3演示版已过期。
• 解决了导致后台控制点彼此靠得太近后不再可移动或可移动的问题。
• 修正了影响结晶度（DOC）重新计算的错误。
• 修正了另一个有时会影响峰值搜索中峰值位置精度的错误。
• 有一个错误影响了图案图形中x轴的“1/d”缩放，该错误现已修正。

系统要求

Windows

• 装有Microsoft Windows 7、8/8.1、10或11系统（32位或64位）的个人计算机
• 8GB内存
• 具有2.5GB以上可用磁盘空间的硬盘
• 图形分辨率为1024 x 768像素（建议为1280 x 800像素或更高）
• FullProf版本2018年1月（或之后）需要Rietveld改进

macOS系统

• 适用于 Apple Silicon（ARM）的版本：搭载Apple Silicon M1、M2、M3处理器和macOS 11“Big Sur”系统（或更新机型）的Mac
• 适用于Intel Mac的版本：搭载Intel（或Apple芯片）处理器和macOS 10.13“High Sierra”系统（或更高版本）的Mac
• 8GB内存
• 具有2.5GB可用磁盘空间的硬盘
• 图形分辨率为1024 x 768像素（建议为1280 x 800像素或更高）
• FullProf版本2018年3月（或更高版本）需要Rietveld改进

Linux系统

• 装有Linux（Intel 64 位）和glibc 2.27（或更高版本）的个人计算机
• 8GB 内存
• 具有2.5GB可用磁盘空间的硬盘
• 图形分辨率为1024 x 768像素（建议为1280 x 800像素或更高）
• FullProf版本2018年2月（或更高版本）需要Rietveld改进

【英文介绍】

Match! is an easy-to-use software for phase analysis using powder diffraction data. It compares the diffraction pattern of your sample to a database containing reference patterns in order to identify the phases which are present. Additional knowledge about the sample like known phases, elements or density can be applied easily.

In addition to this qualitative analysis, a quantitative analysis (using Rietveld refinement) can be performed as well. You can easily setup and run Rietveld refinements from within Match!, with the actual calculations being performed automatically, using the well-known program FullProf (by J. Rodriguez-Carvajal) in the background. Match! provides a gentle introduction into Rietveld refinement, from fully automatic operation to the "Expert" mode. The software runs natively on Windows, macOS and Linux.